一、半導體廢水簡介

　　隨著電子產(chǎn)品的應用領域在不斷的擴大，半導體涉及的行業(yè)也越來越廣泛，半導體工業(yè)不僅對于純水的要求高，在產(chǎn)品制作的過程中將會產(chǎn)生大量的工業(yè)污水，因生產(chǎn)產(chǎn)品的原材料不同，所以產(chǎn)生的廢水的廢水性質也不同。

　　二、廢水處理難點

　　1、半導體廢水處理污染物種類多，成分復雜；

　　2、含有多種重金屬、氟、硅以及有機廢水等；

　　3、含有高濃度的極細懸浮顆粒；

　　4、工業(yè)的污水排放量大；

　　5、廢水濃度低，水質變化大；

　　6、廢水中含金屬離子種類較多，需分開收集進行處理；
 

　　三、工藝流程

　　含氟廢水：半導體含氰清洗水的處理一般采用兩級堿性氧化法處理工藝，半導體廢水處理設備設有機械攪拌系統(tǒng)、PH控制系統(tǒng)、ORP控制系統(tǒng)以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統(tǒng)，將廢水pH值調節(jié)在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv，進行一級氧化破氰，反應時間為15 ~ 20min。

　　當進行二級氧化破氰時，廢水的pH值調節(jié)在pH在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv,反應時間15 ~ 20min,將CN-氧化就為CN0-。

　　有機廢水一般采用經(jīng)濟高效的生化法，如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規(guī)污染物去除效果非常可觀。.

　　金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇，常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。
 

　　
       四、宏森環(huán)保半導體廢水處理設備優(yōu)勢：

　　1、占地面積小，整體造型美觀;

　　2、操作方便，運營成本低;

　　3、免費提供1對1定制方案;

　　4、自主研發(fā)技術，30年行業(yè)沉淀，確保污水穩(wěn)定達標排放;

　　5、自主研發(fā)系統(tǒng)，投資性價比高;

　　6、清污分流，分類分級處理;
       
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